南洋理工与A*STAR推出AI图像水印新方案MaskMark,成本降低1/15性能全面超越WAM

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周大 发表于 2025-5-31 14:17:12 | 显示全部楼层 |阅读模式
研究人员提出了一种新型局部鲁棒图像水印方法——MaskMark,解决了传统水印方法在图像局部篡改时易失效的问题。MaskMark通过掩码机制实现精准水印嵌入与提取,支持多水印嵌入和灵活的局部水印保护,尤其在小区域定位和高视觉保真度下表现优异。相比Meta的SOTA模型WAM,MaskMark不仅性能更优,且训练成本仅为WAM的1/15。实验表明,MaskMark在全局与局部水印任务中均表现出SOTA性能,同时具备高效性和扩展性,可快速适应新兴威胁。
来源:https://mp.weixin.qq.com/s/gOc5L99yQhWBr12lVO956g

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